该晶圆制造商厂最靠近华北东北部，重要产量制造8屏幕尺寸光电器件晶圆，单日废液释放量上涨约800吨。原因产量制造的时候中采用不少盐酸确定晶圆蚀刻，会导致废液中氟化物浓硫酸浓度高达hg200-300mg/L，远超部委释放标准规定（10mg/L接下来）。 废渣部分及来历 工业废水最主要位于三大流程： 晶圆蚀刻步骤 ：含高有机废气浓度氟化物（HF）、氰化钠及一定量巨资属 化学上的物理打磨抛光（CMP）废水处理工艺 ：含纳米级级硅粒子、有机质络合剂 机械拆洗废气 ：含异丙醇、化学需氧量等无机物 进行处理工艺设备注意事项 选择"化学反应凝固+混凝土凝固+深度1滤出"三级考试治疗系統： 特一级治疗 ：加药氯化钙和氢氧化的钙，转变成氟化钙沉淀物，氟化物快速清理率达85% 二次解决 ：使用PAC（缩聚氯化铝）和PAM（聚炳烯酰胺），的还原悬浊液态危害物 一级处里 ：能够 多有机溶剂过虑器和化学活化炭吸附剂，有水出氟化物溶液浓度平稳在8mg/L这 重中之重生产设备还有：pH半自动调整系统化、斜管积淀池、板框板框压滤机（废水脱水现象）。 终结功效 項目工作五年期监测器数据统计展示： 氟化物平均水平氨水浓度：7.2mg/L（低过中国标准） COD去掉率：92% 污水含水分率：≤65% 年收旧氟化钙副服务约150吨，控制資源化再生利用